“En dos años faltará personal en las empresas industriales”

¿Faltarán trabajadores en las empresas vascas dentro de dos años? Viendo el panorama actual y el nivel de paro parece difícil responder que sí a esta pregunta. Pero es el viceconsejero de Formación Profesional del Gobierno vasco, Jorge Arévalo, quien lanza el aviso. “En dos años o menos faltará personal para trabajar en empresas del sector industrial en Euskadi. Va a haber problemas importantes en algunos sectores”, recalca. Arévalo ha realizado este pronóstico durante la presentación en Bilbao, por parte del Gobierno vasco y Confebask, de programas para la formación en centros de trabajo y la formación profesional dual en régimen de alternancia. El viceconsejero achacó esta necesidad a la sustitución de las personas que se van jubilando y, por otra parte, al crecimiento que van a experimentar las empresas gracias a la recuperación.

El reto, según ha destacado Arévalo, es extender el sistema vasco formación profesional dual, que combina estudio y trabajo, “al mayor número de alumnos”. En la actualidad, solo 718 alumnos realizan este tipo de formación. El objetivo del Gobierno es que para los años 2018 o 2020 el 50 o 60% del alumnado de FP opte por la formación dual. Según el viceconsejero, el 70,4% de los alumnos de esta especialidad han logrado trabajo al día siguiente, principalmente con contratos temporales, y, de ellos, un 67% en la misma empresa en la que trabajaron. “Es un modelo consensuado que da resultados”, ha asegurado.

Durante los años de la crisis, los alumnos de FP han crecido en Euskadi un 25%, pero este año la cifra ya se ha estabilizado. “Todavía es insuficiente el número de personas que optan por la FP para atender las necesidades del tejido productivo y, sobre todo, en la actual coyuntura”, ha recalcado. Por ejemplo, el Cluster de Telecomunicaciones Gaia ya ha trasladado al Gobierno su necesidad de personal “a corto plazo”: entre 1.000 y 2.000 personas en dos años para trabajar en los campos de la electrónica y las telecomunicaciones.